A New Lithography Method

En Ny Litografimetode Litografi betyr "å skrive i sten" og vi kjenner alle ordet litografi fra kunstens verden. Ordet litografi brukes også om en metode for å produsere lednings-mønstrene i elektronikkomponenter (mikrochips). Vanligvis blir litografiprose ssen utført ved at en maske med et mønster avbildes på en overflate ved hjelp av en lysstråle. Bølgelengden til lyset bestemmer størrelsen på detaljer som kan avbildes: Dvs. jo mindre bølgelengde jo finere detaljer/oppløsning. Når lyset får mindre/korter e bølgelængde øker energien. Det gjør det vanskelig å finne egnede maske materialer som tåler slik påkjenning (lyset får så høy energi at det går rett gjennom masken). Med dagens teknologi går grensen ved ca. 20 nanometer, og produksjonsprisen er enorm. E t litografiutstyr som kan lage mikrochips med 20 nm detaljer koster 60-100 milloner dollars. Industrien ønsker å produsere detaljer ned til 10 nm, men det er ikke mulig med dagens teknologi og metoder for lys-litografi. I dette projektet ønsker vi å verif isere en ny litografimetode som bruker helium atomer istedet for lys til at producere ledningsmønstre. Metoden utnytter kvantemekanikken, som har demonstreret at atomer i enkelte sammenhenger kan oppførere sig som bølger. Den store fordelen ved å bruke at omer istedet for lys, er at et atom har vesentlig mindre energi en lys for en bestemt bølgelengde. Det betyr at vi på sikt kan skrive detaljer som er 10 nm eller mindre, og det med et utstyr som er langt billigere end det industrien bruker i dag. Projekte t baserer seg på et nytt patent, som ble innlevert i 2013 av BTO/UiB med den vitenskapelige leder av projektet, Professor Bodil Holst, som oppfinner.